在選擇《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志審稿人時(shí),需要考慮多個(gè)因素以確保審稿人的專業(yè)性和公正性。以下是一些建議的步驟和策略:
一、明確審稿標(biāo)準(zhǔn)
首先需要明確審稿的標(biāo)準(zhǔn),審稿人應(yīng)具備扎實(shí)的專業(yè)知識、豐富的審稿經(jīng)驗(yàn)以及良好的學(xué)術(shù)道德。
二、利用數(shù)據(jù)庫資源
通過SCI、SSCI、A&HCI、ISTP等學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫,可以檢索到與《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志領(lǐng)域相關(guān)的科學(xué)家和學(xué)者的信息。
三、參考文獻(xiàn)
論文中的參考文獻(xiàn)作者通常是該領(lǐng)域的專家或?qū)W者,他們的研究興趣和領(lǐng)域與論文內(nèi)容密切相關(guān)。因此,參考文獻(xiàn)作者可以作為審稿人的重要來源。
四、尋找雜志編委或?qū)W術(shù)會議主席
雜志編委和學(xué)術(shù)會議主席通常是該領(lǐng)域的權(quán)威專家,他們具有廣泛的學(xué)術(shù)聯(lián)系和豐富的審稿經(jīng)驗(yàn)。
五、認(rèn)真填寫推薦理由
如果雜志要求作者推薦審稿人,作者應(yīng)認(rèn)真填寫推薦理由,說明審稿人的專業(yè)背景、研究領(lǐng)域與論文內(nèi)容的契合度等。
《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志基本信息
主管單位:中國電子科技集團(tuán)公司
主辦單位:中國電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所
國內(nèi)刊號CN:62-1077/TN,國際刊號ISSN:1004-4507
創(chuàng)刊時(shí)間:1971年
出版周期:雙月刊
出版地:北京
出版語言:中文
審稿周期:1個(gè)月內(nèi)
主要欄目: 先進(jìn)封裝技術(shù)與設(shè)備、半導(dǎo)體制造工藝與設(shè)備、電子專用設(shè)備研究、專用設(shè)備維護(hù)與保養(yǎng),這些欄目不僅為不同電子階段的研究者提供了展示平臺,也滿足了電子實(shí)踐者對各類電子問題的探討需求。
收錄情況:知網(wǎng)收錄(中)、維普收錄(中)、萬方收錄(中)、國家圖書館館藏、上海圖書館館藏等,這些數(shù)據(jù)表明了該雜志在電子領(lǐng)域的學(xué)術(shù)價(jià)值和傳播影響力。
期刊榮譽(yù):Caj-cd規(guī)范獲獎(jiǎng)期刊、中國優(yōu)秀期刊遴選數(shù)據(jù)庫、中國期刊全文數(shù)據(jù)庫(CJFD)等,在電子學(xué)術(shù)理論界有著良好的聲譽(yù)和廣泛的影響,對推動電子事業(yè)的發(fā)展發(fā)揮了重要作用。
學(xué)者姓名 | 發(fā)文量 | 主要研究主題 |
童志義 | 43 | 光學(xué)光刻;集成電路;光刻;硅;CMP |
鮮飛 | 42 | 表面貼裝技術(shù);SMT;貼片機(jī);波峰焊;SMT生產(chǎn) |
翁壽松 | 30 | 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè);半導(dǎo)體;半導(dǎo)體設(shè)備;銅互連;應(yīng)變... |
柳濱 | 21 | CMP;化學(xué)機(jī)械拋光;化學(xué)機(jī)械平坦化;拋光液;... |
陳大鵬 | 21 | 半導(dǎo)體器件;刻蝕;MEMS;溝道;焦平面陣列 |
顏景平 | 19 | 機(jī)器人;冗余度機(jī)器人;料器;球磨機(jī);回轉(zhuǎn)誤差 |
周國安 | 18 | CMP;化學(xué)機(jī)械平坦化;化學(xué)機(jī)械拋光;拋光液;... |
葉甜春 | 17 | X射線光刻;溝道;半導(dǎo)體器件;版圖;襯底 |
楊洪星 | 17 | 單晶片;鍺;拋光片;晶片;表面粗糙度 |
譚立杰 | 17 | 晶圓;直線電機(jī);激光加工;伺服控制;ETHERCAT |
機(jī)構(gòu)名稱 | 發(fā)文量 | 主要研究主題 |
中國電子科技集團(tuán)公司... | 646 | 半導(dǎo)體;光刻;晶圓;電機(jī);拋光 |
中國電子科技集團(tuán)公司... | 229 | 真空;電池;低溫共燒陶瓷;太陽能... |
中國電子科技集團(tuán)公司... | 168 | 電池;太陽能電池;太陽能;均勻性... |
中國電子科技集團(tuán)公司... | 118 | 單晶;硅單晶;硅片;晶片;區(qū)熔 |
電子工業(yè)部 | 115 | 半導(dǎo)體;光刻;曝光機(jī);切片;切片... |
北京中電科電子裝備有... | 92 | 晶圓;劃片;劃片機(jī);鍵合;封裝 |
中華人民共和國工業(yè)和... | 75 | 光刻;電路;電子專用設(shè)備;集成電... |
中國電子科技集團(tuán)公司 | 68 | 電路;集成電路;化學(xué)機(jī)械拋光;機(jī)... |
中國電子科技集團(tuán)第十... | 66 | 光刻;刻蝕;激光;光刻機(jī);投影光... |
中國科學(xué)院 | 54 | 光刻;光刻機(jī);電路;半導(dǎo)體;電子... |
涉及文獻(xiàn) | 資助項(xiàng)目 |
39 | 國家自然科學(xué)基金 |
37 | 國家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃 |
29 | 國家科技重大專項(xiàng) |
7 | 國家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究發(fā)展計(jì)劃 |
6 | 海南省自然科學(xué)基金 |
3 | 湖南省自然科學(xué)基金 |
3 | 國家火炬計(jì)劃 |
2 | 國防基礎(chǔ)科研計(jì)劃 |
2 | 電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展基金 |
2 | 國際科技合作與交流專項(xiàng)項(xiàng)目 |
涉及文獻(xiàn) | 資助課題 |
9 | 國家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃(2005AA404210) |
8 | 國家科技重大專項(xiàng)(2009ZX02011-005A) |
8 | 國家自然科學(xué)基金(60576053) |
5 | 國家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃(2009AA043103) |
3 | 國家科技重大專項(xiàng)(2012ZX04001-022) |
3 | 國家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃(20094A043103) |
3 | 國家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃(2002AA311243) |
3 | 國家自然科學(xué)基金(50390064) |
3 | 國家火炬計(jì)劃(2003EB041301) |
2 | 國家科技重大專項(xiàng)(2009ZX02010-17) |
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