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《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報》雜志基本信息介紹

《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報》于1981年創(chuàng)辦，全刊信息多卻有條有理，堅持打造交流思想和經(jīng)驗(yàn)共享的主流平臺，國內(nèi)刊號為：11-5177/TB，創(chuàng)刊多年來受到許多讀者的支持和喜愛。

《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報》刊載的論文的內(nèi)容主要涉及如下學(xué)科：真空科學(xué)與技術(shù)、薄膜物理與工藝、表面及界面物理、應(yīng)用表面科學(xué)、物理電子學(xué)、電子材料與處理、納米科學(xué)與技術(shù)、電真空技術(shù)、核真空技術(shù)及真空冶金等。本刊歡迎上述學(xué)科領(lǐng)域內(nèi)的科研論文、研究報告、工藝研究、動態(tài)綜述、工業(yè)技術(shù)等稿件，對于開創(chuàng)性的發(fā)明、發(fā)現(xiàn)等新成果，將優(yōu)先發(fā)表。

雜志往年影響因子統(tǒng)計表